By this author

Growth of Aluminum Molybdenum Oxide Films by Atomic Layer Deposition with Using Trimethylaluminum, Molybdenum Oxytetrachloride, and Water

Issue number 4 from 14.09.2025

В работе продемонстрировано атомно-слоевое осаждение (АСО) алюминий-молибденовых оксидных пленок (Al_xMo_yO_z) с использованием триметилалюминия (ТМА, Al(CH₃)₃), оксотетрахлорида молибдена (MoOCl₄) и воды. Исследование процесса роста пленок осуществляли in situ с использованием кварцевых пьезоэлектрических микровесов и ex situ рентгеновскими методами анализа тонких пленок. АСО Al_xMo_yO_z проводили с использованием суперциклов, состоящих из субциклов ТМА/H₂O и MoOCl₄/H₂O. В работе получены два типа пленок, где соотношение субциклов составляло 1 : 1 (1Al1MoO) и 1 : 7 (1Al7MoO). При 150°C показана линейность роста пленок с постоянной роста 3.0 и 5.7 Å/суперцикл для 1Al1MoO и 1Al7MoO соответственно. Плотность полученных пленок составила 3.6 и 3.9 г/см³ для 1Al1MoO и 1Al7MoO соответственно, а шероховатость была в пределах 20 Å. Степень окисления молибдена в полученных пленках составляла 6+, 5+ и 4+. Рентгендифракционный анализ показал, что полученные пленки имели аморфную структуру.

2 0